正式發(fā)布,！微束分析四項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
以下為您分別簡(jiǎn)要解讀這四項(xiàng)最新推薦性國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)—— 微束分析 電子探針顯微分析（EPMA） 術(shù)語(yǔ)》 (標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 21636-2021) 本標(biāo)準(zhǔn)為修訂采標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)，采標(biāo)自ISO 23833:2013,。 電子探針顯微分析（EPMA）是一門綜合性的技術(shù),，涉及物理,、化學(xué)、電子學(xué)等廣泛術(shù)語(yǔ),。本標(biāo)準(zhǔn)只限于定義電子探針顯微分析（EPMA）,、能譜儀（EDS）顯微分析標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)踐中使用和直接有關(guān)的術(shù)語(yǔ)，包括電子探針顯微分析用一般術(shù)語(yǔ)定義,；描述電子探針顯微分析儀器的術(shù)語(yǔ)定義,；用于電子探針顯微分析方法的術(shù)語(yǔ)定義。本標(biāo)準(zhǔn)的大部術(shù)語(yǔ)也適合于能譜儀顯微分析,。 第一版EPMA術(shù)語(yǔ)2008年發(fā)布以來(lái),，對(duì)EPMA、EDS顯微分析相關(guān)術(shù)語(yǔ)的規(guī)范起到重要作用,。為了增加新技術(shù)發(fā)展提出的新術(shù)語(yǔ)和對(duì)第一版相關(guān)術(shù)語(yǔ)進(jìn)行補(bǔ)充和修改,，ISO于2013年發(fā)布了EPMA術(shù)語(yǔ)修訂版（第二版）,。本標(biāo)準(zhǔn)修訂是根據(jù)第二版進(jìn)行等同采標(biāo)。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 ,。 主要起草人：曾毅 ,、李香庭 。 《微束分析 用于波譜和能譜分析的粉末試樣制備方法》（標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 41074-2021） 本標(biāo)準(zhǔn)為制定采標(biāo)標(biāo)準(zhǔn),，采標(biāo)自ISO 20720:2018,。 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用安裝在EPMA或SEM上的能量色散譜儀(EDS)或波長(zhǎng)色散光譜儀(WDS)分析粉末中的顆粒時(shí)的樣品制備方法。根據(jù)分析目的和粒度,，對(duì)粉末顆粒分析的制備方法進(jìn)行了分類,。本標(biāo)準(zhǔn)適用于直徑大于100nm且直徑小于100μm的無(wú)機(jī)物顆粒。它只適用于“普通”粉末的分析,，這意味著它不包括特殊應(yīng)用的程序,，如法醫(yī)或痕量分析。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國(guó)地質(zhì)科學(xué)院礦產(chǎn)資源研究所 ,、核工業(yè)北京地質(zhì)研究院 ,、中國(guó)科學(xué)院地質(zhì)與地球物理研究所 。 主要起草人：陳振宇 ,、范光 ,、毛騫 。 《微束分析 薄晶體厚度的會(huì)聚束電子衍射測(cè)定方法》 (標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 20724-2021) 本標(biāo)準(zhǔn)為GB/T 20724-2006的修訂標(biāo)準(zhǔn),。 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用透射/掃描透射電子顯微鏡測(cè)定薄晶體試樣厚度的會(huì)聚束電子衍射（CBED）方法,。適用于對(duì)線度從幾納米至幾百微米、厚度在幾十至幾百納米范圍的薄晶體厚度測(cè)定,。主要內(nèi)容為：CBED技術(shù)測(cè)量薄晶體厚度的方法概述,、適用的材料試樣、實(shí)驗(yàn)方法與基本步驟,、數(shù)據(jù)的分析計(jì)算以及不確定度等,，可供廣大分析人員參照?qǐng)?zhí)行。 目前我國(guó)在科研院所,、高等院校,、大型企業(yè)和各地分析測(cè)試中心等實(shí)驗(yàn)室已裝備了大量透射電鏡/掃描透射電鏡（TEM/STEM），開展相關(guān)應(yīng)用,。對(duì)應(yīng)的國(guó)標(biāo)GB/T20724- 2006已經(jīng)發(fā)布多年,，在此期間，材料研究水平以及儀器設(shè)備均有極大進(jìn)步,。因此,，對(duì)GB/T20724- 2006進(jìn)行修訂具有現(xiàn)實(shí)的重要意義。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：北京科技大學(xué) ,、中國(guó)航發(fā)北京航空材料研究院 ,。 主要起草人：柳得櫓 ,、婁艷芝 《微束分析 電子背散射衍射 鋼中奧氏體的定量分析》 (標(biāo)準(zhǔn)號(hào):GB/T 41076-2021) 本標(biāo)準(zhǔn)為制定標(biāo)準(zhǔn)。 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用電子背散射衍射（EBSD）測(cè)量鋼中奧氏體含量和形態(tài)的方法,。本標(biāo)準(zhǔn)主要技術(shù)內(nèi)容包括術(shù)語(yǔ)和定義,、原理、設(shè)備,、取樣、試樣制備,、校準(zhǔn)與核查,、測(cè)量、數(shù)據(jù)分析及檢測(cè)報(bào)告等,。 奧氏體存在于很多鋼中,，如低碳鋼、中碳鋼,、低合金鋼等,。近幾年奧氏體尤其在TRIP鋼、QP鋼,、TWIP鋼等低合金高強(qiáng)汽車板里應(yīng)用很多,。奧氏體在變形過程中會(huì)部分發(fā)生馬氏體相變，其含量及轉(zhuǎn)變量會(huì)直接影響到材料強(qiáng)度和延伸率的提高程度,。轉(zhuǎn)變量主要由奧氏體形態(tài)決定,。因此，奧氏體的含量和形態(tài)直接影響了這些高強(qiáng)汽車板的服役性能,。 國(guó)內(nèi)目前主要使用YB/T5128-2006《鋼中殘余奧氏體定量測(cè)定 X射線衍射儀法》測(cè)量奧氏體含量,。該標(biāo)準(zhǔn)在使用過程中存在如下問題：1)適用于無(wú)取向的鋼;2)對(duì)形態(tài)無(wú)法表征。 背散射電子衍射法（EBSD）在測(cè)量奧氏體含量時(shí)不受取向的影響,，并且可以對(duì)奧氏體的形態(tài)進(jìn)行表征,，其測(cè)量結(jié)果對(duì)高強(qiáng)汽車板的研發(fā)有著很重要的指導(dǎo)意義，同時(shí)也可以作為該類產(chǎn)品的一項(xiàng)重要指標(biāo)來(lái)監(jiān)督產(chǎn)品質(zhì)量,。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：首鋼集團(tuán)有限公司 ,、牛津儀器科技(上海)有限公司 、鋼鐵研究總院 ,。 主要起草人：孟楊 ,、鞠新華 、崔桂彬 ,、楊小鵬 ,、李繼康 、張玉成 ,、陳鷹 ,、尹立新 ,、任群 、嚴(yán)春蓮 ,、其其格 ,、賈惠平 。
